50% 2- 하이드 록시 포스 포노 카르 복실 산 hpaa cas 23783-26-8

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2- 하이드 록시 포스 포노 카르 복실 산은 무엇입니까?

제품 이름 : 하이드 록시 포스 포노 아세트산 / HPAA
CAS : 23783-26-8
화학적 공식 : C2H5O6p
외관 : 짙은 갈색 액체 짙은 갈색 액체
분자량 : 156.03

2- Hydroxyphosphonocarboxylic acid는 주로 금속 및 강철, 석유 화학, 전력, 제약 및 기타 산업에 널리 사용되는 금속 음극 부식 억제제로 주로 사용됩니다. 냉각수 시스템 부식 및 스케일 억제제 및 스케일 억제제에 적합한 냉각수 시스템 부식 및 스케일 억제제에 적합합니다.

사용 :

1. 50% 2- 하이드 록시 포스 포노 카르 복실 산은 주로 금속에 대한 음극 부식 억제제로 사용되며, 철 및 철강의 순환 냉각수 시스템, 석유 화학, 전력, 의학 및 기타 산업에 대한 냉수 및 스케일 억제 산업에 {2} (})} {} {|
2. 하이드 록시 포스 포노 아세트산은 절단 유체, 연삭 유체 등과 같은 금속 작동 유체의 첨가제로 사용될 수 있습니다. . 부식 억제의 역할을 수행하고 마모를 줄일 수 있습니다 .
3. HPAA는 금속 표면에서 먼지와 녹을 제거하기 위해 세척제로 사용될 수 있습니다 .

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